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解決方案

大族激光多年來注重產(chǎn)品研發(fā)、科技創(chuàng)新投入與沉淀，緊隨高質(zhì)量發(fā)展的推進(jìn)步伐，打破關(guān)鍵核心技術(shù)壁壘；并基于自身產(chǎn)品獨(dú)特優(yōu)勢，不斷豐富全場景解決方案，賦能全球多個市場千行百業(yè)終端應(yīng)用實(shí)例。

標(biāo)準(zhǔn)型涂膠顯影機(jī) CD06-XS2C2D1A

產(chǎn)品特點(diǎn) 1占地小、穩(wěn)定性高、操作與維護(hù)方便；
2可廣泛用于硅，碳化硅，氮化鎵，砷化鎵，玻璃等材料的涂膠顯影工藝；
3可覆蓋0.35um以上工藝需求，滿足2~6寸晶圓需求，可涂覆3~20000CP光刻膠；
4 控制精度高,實(shí)時控制解決方案，Ether CAT 通訊，高精度擺臂及傳輸機(jī)構(gòu)；
5自主可控的技術(shù)方案，自主開發(fā)的軟件系統(tǒng)，充分滿足定制化要求。

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產(chǎn)品應(yīng)用

應(yīng)用范圍：

化合物半導(dǎo)體、功率器件、MEMS、射頻集成電路、LED、科研項(xiàng)目、光學(xué)器件

產(chǎn)品參數(shù)

片盒數(shù)量	2&3CS
wafer 類型	圓片、方片
wafer 尺寸（mm）	50-150
產(chǎn)能（WPH）	110
襯底材料	Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝	g-line、i- line、PI

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解決方案

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廣東大族半導(dǎo)體裝備科技有限公司主要研究應(yīng)用于硅、碳化硅、砷化鎵、氮化鎵、陶瓷、藍(lán)寶石、玻璃、柔性薄膜等材料的加工工藝，生產(chǎn)制造

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